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作者:宿彥博 專利代理人

在專利申請(qǐng)的說明書中,具體實(shí)施方式是很重要的一個(gè)部分,相對(duì)于發(fā)明(實(shí)用新型)內(nèi)容部分偏抽象的描述,具體實(shí)施方式中以實(shí)施例的形式對(duì)專利申請(qǐng)的技術(shù)方案進(jìn)行說明,其內(nèi)容更具場(chǎng)景化與形象化,更易被審查員與專利讀者理解??梢哉f,實(shí)施例的撰寫質(zhì)量在很大程度上決定了說明書的質(zhì)量。更為重要的是,專利法第26條第4款規(guī)定,“權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說明書為依據(jù),清楚、簡(jiǎn)要地限定要求專利保護(hù)的范圍”,因此實(shí)施例對(duì)于權(quán)利要求起著關(guān)鍵性的支撐作用,高質(zhì)量的實(shí)施例撰寫,將為申請(qǐng)人在日后可能出現(xiàn)的答復(fù)審查意見以及無效抗辯中爭(zhēng)取更多的主動(dòng)權(quán)。

在實(shí)務(wù)中,對(duì)實(shí)施例進(jìn)行擴(kuò)展,使說明書的內(nèi)容充實(shí)而全面,常常耗費(fèi)代理人大量的時(shí)間與精力。關(guān)于如何擴(kuò)展實(shí)施例,筆者認(rèn)為,可以從以下幾方面入手。

一、實(shí)施例中特征的四層次

權(quán)利要求的技術(shù)方案通常較為上位,可看作是專利的骨架,而實(shí)施例則是專利的血肉與皮膚,骨架與皮膚之間一定要有血肉來做維系,也就是說,實(shí)施例不能只有最下位的舉例,而需要以權(quán)利要求為基礎(chǔ),有層次的過渡到具體示例。

實(shí)施例中特征通常需要有四個(gè)層次的說明:1.權(quán)利要求中的特征概述;2.對(duì)特征進(jìn)行具體解讀;3.平級(jí)特征舉例;4.一個(gè)或多個(gè)具體示例說明。

例如:權(quán)1限定了特征A,那么用四層次法撰寫實(shí)施例時(shí):

1.對(duì)A進(jìn)行概括性說明,可以包括概念解釋、功能描述等;

2. 進(jìn)一步說明,在本實(shí)施例中A可以為B(可聯(lián)系從權(quán)),B為A的下位特征;

3.平級(jí)特征舉例,如A也可以為C,C為與B并列的下位特征;

4.對(duì)B做下位的具體示例說明,必要時(shí)對(duì)C也做具體示例說明。

例1,在電學(xué)游戲領(lǐng)域的專利申請(qǐng)中,權(quán)利要求經(jīng)常會(huì)用到“預(yù)設(shè)操作”這一描述。實(shí)施例可以用四層次對(duì)“預(yù)設(shè)操作”說明如下:首先對(duì)預(yù)設(shè)操作進(jìn)行簡(jiǎn)單解釋,如“預(yù)設(shè)操作是指游戲終端接收到的玩家進(jìn)行的游戲操作”;然后進(jìn)一步描述本實(shí)施例中的“預(yù)設(shè)操作”,如“對(duì)于觸控終端,預(yù)設(shè)操作可以是點(diǎn)擊、長(zhǎng)按、滑動(dòng)等觸控操作”;再對(duì)“觸控操作”進(jìn)行平級(jí)特征舉例,如“對(duì)于PC終端,預(yù)設(shè)操作也可以是單擊、雙擊、拖動(dòng)等鼠標(biāo)操作”;最后從“觸控操作”列舉的示例中選擇具體一例或多例,擴(kuò)展為實(shí)際應(yīng)用情況,如“以點(diǎn)擊為例,當(dāng)點(diǎn)擊觸控終端時(shí)……”;在一個(gè)實(shí)施例的結(jié)尾,最好還有兜底性說明,如“對(duì)于其他類型的終端,預(yù)設(shè)操作還可以是其他形式的操作”。

實(shí)務(wù)中,四層次的展開描述也可以不拘于上述順序,例如也常用1-2-4-3,2-4-3-1等順序。

二、下位特征列舉時(shí)注意合理性

通常代理人在撰寫時(shí)都希望實(shí)施例盡可能覆蓋到權(quán)利要求的方案的各個(gè)角落,從而將下位特征盡可能全面的列舉,如“所述特征A是指XXX,包括B、C、D等”,其中,B、C、D是A的一種分類下的各下位特征,此時(shí)需要特別注意B、C、D對(duì)于實(shí)現(xiàn)本技術(shù)方案是否具備合理性。專利法第26條第3款規(guī)定,“說明書應(yīng)當(dāng)對(duì)發(fā)明或者實(shí)用新型作出清楚、完整的說明,以所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)”?!秾@麑彶橹改稀芬?guī)定,實(shí)施例的一般原則是:“應(yīng)當(dāng)能足以理解發(fā)明如何實(shí)施,并足以判斷在權(quán)利要求所限定的范圍內(nèi)都可以實(shí)施并取得所述的效果”(該規(guī)定主要針對(duì)化學(xué)領(lǐng)域的實(shí)施例,對(duì)其他領(lǐng)域有參考意義)。如果上述B、C、D中有一個(gè)特征明顯難以實(shí)現(xiàn)本方案,或者有一個(gè)特征難以通過權(quán)利要求與說明書明顯的推斷出可實(shí)現(xiàn)本方案,那么實(shí)施例的撰寫就可能被認(rèn)為存在缺陷。

針對(duì)上述問題,提出撰寫建議如下:首先,B、C、D中如果有明顯不支持本方案的特征,例如特征D,則在撰寫時(shí)需要回避D,甚至考慮在權(quán)利要求中是否需要限定非D;其次,B、C、D中有一個(gè)是本實(shí)施例中將舉例說明的特征,例如特征B,則需要考慮B的下位舉例過程是否可同理適用于C、D中,如果難以明顯的適用于D中,則最好對(duì)D也舉例說明。

例2,權(quán)1限定了一種雷達(dá)接收機(jī),包括濾波器A;權(quán)2限定了所述濾波器A為L(zhǎng)C濾波器。在實(shí)施例部分描述“所述濾波器A可以是LC濾波器、RC濾波器等模擬濾波器,也可以是FIR濾波器、IIR濾波器等數(shù)字濾波器”。然而通過上下文,濾波器A用于對(duì)輸入的模擬信號(hào)濾波,顯然這里的數(shù)字濾波器就是不合理的下位特征,則可以在實(shí)施例特征列舉時(shí)回避數(shù)字濾波器,如采用另外的分類方法;也可以進(jìn)行一定的補(bǔ)充說明,如“也可以是與模數(shù)轉(zhuǎn)換器連接使用的FIR濾波器、IIR濾波器等數(shù)字濾波器”,從而使數(shù)字濾波器在本方案中的應(yīng)用具有合理性。另一種情況是,對(duì)于LC濾波器如何應(yīng)用于本方案,通過一個(gè)示例做了論證性說明,而該過程僅適用于模擬信號(hào)的情況,無法將其同理適用于數(shù)字濾波器中,則應(yīng)當(dāng)選擇FIR濾波器或者IIR濾波器中一種,也進(jìn)行舉例說明,從而能夠支持權(quán)1中濾波器這一特征的全面性。

三、實(shí)施例中特征的補(bǔ)集性擴(kuò)展

在實(shí)施例特征的四層次中,平級(jí)特征有時(shí)難以確定,這種情況下可以在從權(quán)特征的補(bǔ)集中尋找是否有支持本技術(shù)方案的特征,將其作為平級(jí)特征補(bǔ)充到實(shí)施例中。

例3:權(quán)1限定通過函數(shù)由M得到N;權(quán)2限定所述函數(shù)為線性函數(shù)。那么在撰寫實(shí)施例時(shí),首先應(yīng)當(dāng)在線性函數(shù)的特征下舉例說明,如論證如何通過函數(shù)Y=A?X+B由M得到N。此外,在線性函數(shù)的補(bǔ)集中,即在非線性函數(shù)中尋找可擴(kuò)展的示例,通常可以概括性的用一句話來兜底說明,如“所述函數(shù)還可以是指數(shù)函數(shù)、正弦函數(shù)等非線性函數(shù)”,在此基礎(chǔ)上,最好在補(bǔ)集性特征中舉例,如可以論證Y=C?X2+D也支持權(quán)1的方案。如果對(duì)于補(bǔ)集性特征的全集沒有信心,例如不確定正弦函數(shù)是否支持本方案時(shí),兜底說明可以改為“所述函數(shù)還可以是指數(shù)函數(shù)、對(duì)數(shù)函數(shù)等其他形式的函數(shù)”,從而在描述上留出一定余地。

四、反向?qū)徱晫?shí)施例有無冗余的共同特征

在完成實(shí)施例的撰寫后,可以從審查員的角度對(duì)實(shí)施例中列舉的下位特征及具體示例進(jìn)行反向?qū)徱?,主要看?shí)施例對(duì)權(quán)利要求的方案覆蓋是否全面,如果實(shí)施例可以總結(jié)出一個(gè)冗余的共同特征,即該共同特征是權(quán)利要求中沒有提及的限定條件,則容易被認(rèn)為權(quán)利要求未以說明書為依據(jù)。

如果出現(xiàn)這種情況,可以對(duì)實(shí)施例做移位、變換等方式的調(diào)整,使其跳出冗余的共同特征這一范圍,方法可以參考上述第三條,到該共同特征的補(bǔ)集中尋找可擴(kuò)展的實(shí)施例。

結(jié)語

以上僅僅從四個(gè)方面對(duì)實(shí)施例的擴(kuò)展進(jìn)行了概述,對(duì)于不同領(lǐng)域的專利申請(qǐng),撰寫實(shí)施例時(shí)側(cè)重點(diǎn)也不同,例如電學(xué)領(lǐng)域強(qiáng)調(diào)對(duì)權(quán)利要求的方案應(yīng)用場(chǎng)景舉例說明,同時(shí)需要注意所舉例的應(yīng)用場(chǎng)景是否具有代表性;又例如機(jī)械領(lǐng)域重視技術(shù)方案在具體的結(jié)構(gòu)與部件兩個(gè)方面“落地”,同時(shí)需要注意對(duì)本實(shí)施例中結(jié)構(gòu)的變形以及部件的替換做舉例說明。

然而,無論是哪個(gè)領(lǐng)域的專利申請(qǐng),高質(zhì)量的實(shí)施例撰寫都得益于代理人對(duì)技術(shù)方案的深入理解以及對(duì)并列方案的廣泛挖掘,而這些又離不開代理人在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的知識(shí)儲(chǔ)備。因此,除了掌握與熟悉撰寫技巧,平日的專業(yè)知識(shí)學(xué)習(xí)與累積同樣甚至更加重要,這也為代理人提出了更高的要求。

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